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HC200數(shù)字式涂層測(cè)厚儀、上海測(cè)厚儀

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HC200數(shù)字式涂層測(cè)厚儀、上海測(cè)厚儀

詳細(xì)介紹

                                      HC200數(shù)字式涂層測(cè)厚儀
一、 HC200數(shù)字式涂層測(cè)厚儀
功能用途
HC200數(shù)字式涂層測(cè)厚儀是磁性、渦流一體的便攜式涂層測(cè)厚儀，它能快速、無損傷、精密地進(jìn)行涂、鍍層厚度的測(cè)量。既可用于實(shí)驗(yàn)室，也可用于工程現(xiàn)場(chǎng)。本儀器能廣泛地應(yīng)用在制造業(yè)、金屬加工業(yè)、化工業(yè)、商檢等檢測(cè)領(lǐng)域。是材料保護(hù)*的儀器。  
二、 HC200數(shù)字式涂層測(cè)厚儀
主要特點(diǎn)
u采用了磁性和渦流兩種測(cè)厚方法，既可測(cè)量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度又可測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚；
u具有兩種測(cè)量方式：連續(xù)測(cè)量方式（CONTINUE）和單次測(cè)量方式（SINGLE）;
u具有兩種工作方式：直接方式（DIRECT）和成組方式（App1）；
u設(shè)有五個(gè)統(tǒng)計(jì)量：平均值（MEAN）、*大值（MAX）、*小值（MIN）、測(cè)試次數(shù)（NO.）、標(biāo)準(zhǔn)偏差（S.DEV）；
u可采用兩種方法對(duì)其進(jìn)行校準(zhǔn),并可用基本校準(zhǔn)法對(duì)測(cè)頭的系統(tǒng)誤差進(jìn)行修正;
u具有存貯功能：可存貯500個(gè)測(cè)量值；
u具有刪除功能：對(duì)測(cè)量中出現(xiàn)的單個(gè)可疑數(shù)據(jù)進(jìn)行刪除，可也刪除存貯區(qū)內(nèi)的所有數(shù)據(jù)，以便進(jìn)行新的測(cè)量；
u可設(shè)置限界：對(duì)限界外的測(cè)量值能自動(dòng)報(bào)警；并可用直方圖對(duì)一批測(cè)量值進(jìn)行分析；
u具有打印功能：可打印測(cè)量值、統(tǒng)計(jì)值、限界、直方圖；
u具有與PC機(jī)通訊的同能：可將測(cè)量值、統(tǒng)計(jì)值傳輸至PC機(jī)，以便對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行進(jìn)一步處理；
u具有電源欠壓指示功能；
u操作工程有蜂鳴聲提示；
u具有錯(cuò)誤提示功能，通過屏顯或蜂鳴聲進(jìn)行錯(cuò)誤提示；
u設(shè)有兩種關(guān)機(jī)方式：手動(dòng)關(guān)機(jī)方式和自動(dòng)關(guān)機(jī)方式；
三、規(guī)格參數(shù)
測(cè)頭類型F N
工作原理  磁感應(yīng)渦流
測(cè)量范圍0~1250μm 0~1250μm
銅上鍍鉻(0~40μm)
低限分辨率0.1μm(0-100)/1μm(100-1250) 0.1μm(0-100)/1μm(100-1250)
示值誤差一點(diǎn)校準(zhǔn)±(3%H+1) ±(3%H+1.5)
二點(diǎn)校準(zhǔn)±[(1~3%)H+1] ±[(1~3%)H+1.5]
測(cè)試條件基體*小曲率凸面:1.5mm/凹面:3mm 凸面:1.5mm/凹面:3mm
基體*小面積Φ7 Φ5
基體*小厚度0.5mm 0.3mm
四、探頭選用參考表
基體覆蓋層  有機(jī)材料等非磁性覆蓋層(如：漆料、涂料塑料、搪瓷和陽極化處理等) 非磁性的有色金屬覆蓋層如：鉻、鋅、鋁、銅、錫、銀等
如鐵、鋼等磁性金屬F型探頭
測(cè)量范圍：0μm~1250μm
 F型探頭
測(cè)量范圍：0μm~1250μm
如銅、鋁、黃銅、鋅、錫等有色金屬N型探頭
測(cè)量范圍：0μm~1250μm N型探頭僅用于銅上鍍鉻
測(cè)量范圍:0μm~40μm
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