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行業(yè)產(chǎn)品

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Phenom LE臺式場發(fā)射電鏡能譜一體機

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品       牌

廠商性質其他

所  在  地重慶市

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產(chǎn)品簡介

歷時6年的研發(fā),荷蘭飛納公司于2018年推出了首套穩(wěn)定運行的臺式場發(fā)射(FEG)電鏡能譜一體機Phenom LE臺式場發(fā)射電鏡能譜一體機,采用肖特基場發(fā)射電子槍(FEG),集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析于一體。飛納臺式場發(fā)射電鏡操作簡單,效率高,無需防震臺和磁屏蔽,無樓層要求,只需要一張承重200kg的桌子。

詳細介紹

歷時6年的研發(fā),荷蘭飛納公司于2018年推出了首套穩(wěn)定運行的臺式場發(fā)射(FEG)電鏡能譜一體機Phenom LE臺式場發(fā)射電鏡能譜一體機,采用肖特基場發(fā)射電子槍(FEG),集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析于一體。飛納臺式場發(fā)射電鏡操作簡單,效率高,無需防震臺和磁屏蔽,無樓層要求,只需要一張承重200kg的桌子。
飛納臺式場發(fā)射電鏡能譜一體機zhuan利腔室設計得到*的探測角度和工作距離,顯著提高X射線的收集效率。該能譜采用穩(wěn)定堅固的超薄Si3N4窗口,透過率在0.26-0.6 KeV低能量范圍,是聚合物窗口的2-3倍,適合輕元素檢測和低電壓能譜分析。量范圍平均透過率比聚合物窗口高35%,進一步提高了能譜儀的X射線計數(shù)率。
儀器特點:
1、高分辨臺式場發(fā)射電鏡:肖特基場發(fā)射電子源,分辨率優(yōu)于2.5nm@15kV
2、zui快的場發(fā)射掃描電鏡:內置真空鎖,15s抽真空,實時導航,全面跟蹤樣品
3、使用zui方便的場發(fā)射電鏡:30分鐘培訓即可上手,無需噴金直接觀察不導電樣品
4、場發(fā)射電鏡能譜一體機:原廠集成能譜儀,B(5)-Am(95)元素探測
5、升級功能:飛納臺式場發(fā)射電鏡能譜一體機可選配所有的樣品杯硬件選件,還可選配孔徑、顆粒、纖維統(tǒng)計分析測量系統(tǒng)和3D粗糙度重建等軟件選件。
Phenom LE臺式場發(fā)射電鏡能譜一體機主要參數(shù):

光學顯微鏡放大 20-135 倍
電鏡放大zui高 500,000 倍
探測器標配背散射電子、二次電子探測器
燈絲材料肖特基場發(fā)射電子源
分辨率優(yōu)于 2.5 nm@15kV
放置環(huán)境普通實驗室或辦公室、廠房
加速電壓2 kV-15 kV 連續(xù)可調
抽真空時間小于 15 秒
探測元素范圍B(5)- Am(95)號元素
能譜探測器硅漂移探測器(SDD)
輸出報告DOCX
冷卻方式無液氮 Peltier 效應電制冷
X射線分析模式15 kV
能量分辨率<132eV(Mn Kα)
窗口Si3N4



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